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利用飞秒脉冲激光制备微流道掺杂纳米晶激光器的方法
其他题名利用飞秒脉冲激光制备微流道掺杂纳米晶激光器的方法
冯国英; 王树同; 杨超; 周寿桓
2017-11-28
专利权人四川大学
公开日期2017-11-28
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明所述利用飞秒脉冲激光制备微流道掺杂纳米晶激光器的方法:(1)将基底材料固定在电控平移台上,将飞秒脉冲激光经显微物镜聚焦后辐照到基底材料的面或内部,并按照设计好的微流道图案进行可控辐照,在基底材料中写入所设计的微流道图案;(2)微流道的制备,采用辅助湿法腐蚀法。(3)将块状掺杂激光材料粉碎并研磨成粉末后,分散到蒸馏水中,并将分散有掺杂激光材料的蒸馏水置于透明容器中,在搅拌下利用飞秒脉冲激光经聚焦后直接辐照消融,直至得到掺杂纳米晶材料;(4)微流道掺杂纳米晶激光器的制备。本发明方法制备的激光器输出方向可控性强,可作为集成光学芯片的光源。
其他摘要本发明所述利用飞秒脉冲激光制备微流道掺杂纳米晶激光器的方法:(1)将基底材料固定在电控平移台上,将飞秒脉冲激光经显微物镜聚焦后辐照到基底材料的面或内部,并按照设计好的微流道图案进行可控辐照,在基底材料中写入所设计的微流道图案;(2)微流道的制备,采用辅助湿法腐蚀法。(3)将块状掺杂激光材料粉碎并研磨成粉末后,分散到蒸馏水中,并将分散有掺杂激光材料的蒸馏水置于透明容器中,在搅拌下利用飞秒脉冲激光经聚焦后直接辐照消融,直至得到掺杂纳米晶材料;(4)微流道掺杂纳米晶激光器的制备。本发明方法制备的激光器输出方向可控性强,可作为集成光学芯片的光源。
申请日期2014-12-12
专利号CN104505709B
专利状态授权
申请号CN201410768310.8
公开(公告)号CN104505709B
IPC 分类号H01S5/30 | B81C1/00
专利代理人刘双兰
代理机构成都科海专利事务有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48303
专题半导体激光器专利数据库
作者单位四川大学
推荐引用方式
GB/T 7714
冯国英,王树同,杨超,等. 利用飞秒脉冲激光制备微流道掺杂纳米晶激光器的方法. CN104505709B[P]. 2017-11-28.
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CN104505709B.PDF(143KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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