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“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法
其他题名“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法
迂修; 张宇; 王国伟; 徐应强; 徐云; 宋国峰
2012-08-08
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2012-08-08
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层。
其他摘要一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层。
申请日期2011-01-25
专利号CN102157903B
专利状态授权
申请号CN201110027237.5
公开(公告)号CN102157903B
IPC 分类号H01S5/343 | C30B25/20
专利代理人汤保平
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48072
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
迂修,张宇,王国伟,等. “W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法. CN102157903B[P]. 2012-08-08.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN102157903B.PDF(231KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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