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一种LD泵浦微片激光器
其他题名一种LD泵浦微片激光器
张哨峰; 吕林芳; 张文照
2004-03-24
专利权人上海冠威光电有限公司
公开日期2004-03-24
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要一种LD泵浦微片激光器,包括:一激光二极管,设置在激光二极管后且与之光连接的聚焦整形装置,设置在聚焦整形装置后的微片晶体组,所述微片晶体组包括激光晶体、自聚焦透镜和倍频晶体,且分别在所述的激光晶体、倍频晶体外侧一端端面镀有对激光二极管发射波长增透同时对腔内基频光和倍频光高反的介质膜层,该自聚焦透镜与激光晶体、倍频晶体是通过光胶或胶粘剂胶合的方式固定连接在一起,形成增益倍频激光谐振腔。由于本实用新型在普通微片中添加一片光学自聚焦透镜,使之具有以下的优点:1)形成了稳定腔结构,稳定性提高,阈值极大降低,泵浦光转换为激光的转换效率提高;2)隔离了激光晶体和倍频晶体的互相影响与干扰,改进了激光器工作状况。
其他摘要一种LD泵浦微片激光器,包括:一激光二极管,设置在激光二极管后且与之光连接的聚焦整形装置,设置在聚焦整形装置后的微片晶体组,所述微片晶体组包括激光晶体、自聚焦透镜和倍频晶体,且分别在所述的激光晶体、倍频晶体外侧一端端面镀有对激光二极管发射波长增透同时对腔内基频光和倍频光高反的介质膜层,该自聚焦透镜与激光晶体、倍频晶体是通过光胶或胶粘剂胶合的方式固定连接在一起,形成增益倍频激光谐振腔。由于本实用新型在普通微片中添加一片光学自聚焦透镜,使之具有以下的优点:1)形成了稳定腔结构,稳定性提高,阈值极大降低,泵浦光转换为激光的转换效率提高;2)隔离了激光晶体和倍频晶体的互相影响与干扰,改进了激光器工作状况。
主权项一种LD泵浦微片激光器,包括:一激光二极管(101),设置在激光二极管(101)后且与之光连接的聚焦整形装置(201),设置在聚焦整形装置(201)后的微片晶体组(300),所述微片晶体组(300)包括激光晶体(301)和倍频晶体(302),且在所述的激光晶体(301)外側一端端面镀有对激光二极管(101)发射波长增透同时对腔内基频光和倍频光高反的介质膜层(401),在倍频晶体(302)的外侧一端端面则镀有对基频光高反同时对倍频光增透的介质膜(402),其特征在于,所述微片晶体组(300)还包括一设置在所述激光晶体(301)和倍频晶体(302)之间的自聚焦透镜(303),且该自聚焦透镜(303)与所述激光晶体(301)、倍频晶体(302)是通过光胶或胶粘剂胶合的方式固定连接在一起,形成增益倍频激光谐振腔。
申请日期2003-01-27
专利号CN2607683Y
专利状态失效
申请号CN03228403.9
公开(公告)号CN2607683Y
IPC 分类号H01S3/08
专利代理人章蔚强
代理机构上海专利商标事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46693
专题半导体激光器专利数据库
作者单位上海冠威光电有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
张哨峰,吕林芳,张文照. 一种LD泵浦微片激光器. CN2607683Y[P]. 2004-03-24.
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