用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统

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	用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统
其他题名	用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统
	孙建华; 卢长信; 张哲子; 杨英姿
	2013-07-31
专利权人	西安华科光电有限公司
公开日期	2013-07-31
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型提供的用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统，包括具有相对设置的接收激光射入的入射面和该激光射出的出射面，入射面是半柱形曲面，出射面为非球面；且该非球面的母线两端距离大于所述半柱形曲面母线的两端距离，以确保经入射面射入的激光全部入射到所述出射面上。该匀光透镜结构简单，易于批量加工，成本低廉，尤其是能很好的实现对各种波长的半导体激光器输出激光光束发散角的调整和激光输出光能量高斯曲线分布进行均匀化调整，提高激光光能量的利用率的同时，具有很好的匀光和消象差性能。
其他摘要	本实用新型提供的用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统，包括具有相对设置的接收激光射入的入射面和该激光射出的出射面，入射面是半柱形曲面，出射面为非球面；且该非球面的母线两端距离大于所述半柱形曲面母线的两端距离，以确保经入射面射入的激光全部入射到所述出射面上。该匀光透镜结构简单，易于批量加工，成本低廉，尤其是能很好的实现对各种波长的半导体激光器输出激光光束发散角的调整和激光输出光能量高斯曲线分布进行均匀化调整，提高激光光能量的利用率的同时，具有很好的匀光和消象差性能。
主权项	一种用于对半导体激光光束整形的匀光透镜，包括具有相对设置的接收所述激光射入的入射面和该激光射出的出射面，其特征在于：所述入射面是半柱形曲面，出射面为非球面；且该非球面的母线两端距离大于所述半柱形曲面母线的两端距离，以确保经所述入射面射入的激光全部入射到所述出射面上。
申请日期	2013-02-26
专利号	CN203101668U
专利状态	授权
申请号	CN201320085174.3
公开（公告）号	CN203101668U
IPC 分类号	G02B3/02 \| G02B3/06 \| G02B27/09 \| G02B27/30 \| G02B7/04 \| G02B26/10 \| G02B27/00
专利代理人	-
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46665
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	西安华科光电有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	孙建华,卢长信,张哲子,等. 用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统. CN203101668U[P]. 2013-07-31.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN203101668U.PDF（3368KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文