Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
窄发散角脊波导半导体激光器 | |
其他题名 | 窄发散角脊波导半导体激光器 |
车相辉; 赵润; 曹晨涛; 陈宏泰; 宁吉丰; 张宇; 位永平; 郝文嘉; 王彦照; 林琳; 杨红伟 | |
2017-08-29 | |
专利权人 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
公开日期 | 2017-08-29 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 本发明公开了一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层、缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱区、上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层;在缓冲层和N型限制层之间还设有扩展波导层,扩展波导层为N型InGaAsP材料,扩展波导层的厚度为0.2μm‑0.5μm,下波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层到多量子阱区的距离为1μm‑2μm;P型限制层和电极接触层设置在腐蚀阻挡层的纵向中部,构成脊波导;采用小球透镜封装。本发明减小了垂直发散角,提高耦合效率,温度特性能满足要求,工艺过程简化,提高芯片成品率,成本低廉。 |
其他摘要 | 本发明公开了一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层、缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱区、上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层;在缓冲层和N型限制层之间还设有扩展波导层,扩展波导层为N型InGaAsP材料,扩展波导层的厚度为0.2μm‑0.5μm,下波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层到多量子阱区的距离为1μm‑2μm;P型限制层和电极接触层设置在腐蚀阻挡层的纵向中部,构成脊波导;采用小球透镜封装。本发明减小了垂直发散角,提高耦合效率,温度特性能满足要求,工艺过程简化,提高芯片成品率,成本低廉。 |
主权项 | 一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层(1)、在衬底层(1)上由下至上依次设有的缓冲层(2)、N型限制层(4)、下限制层(5)、下波导层(6)、多量子阱区(7)、上波导层(8)、上限制层(9)、腐蚀阻挡层(10)、P型限制层(11)和电极接触层(12);其特征在于在缓冲层(2)和N型限制层(4)之间还设有扩展波导层(3),所述扩展波导层(3)为N型InGaAsP材料,扩展波导层(3)的厚度为0.2μm-0.5μm,所述下波导层(6)的厚度为0.05μm-0.15μm,上波导层(8)的厚度为0.05μm-0.15μm,扩展波导层(3)到多量子阱区(7)的距离为1μm-2μm;所述P型限制层(11)和电极接触层(12)设置在腐蚀阻挡层(10)的纵向中部,构成脊波导;采用直径为5mm-2.0mm的小球透镜封装。 |
申请日期 | 2014-12-15 |
专利号 | CN104466675B |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201410770523.4 |
公开(公告)号 | CN104466675B |
IPC 分类号 | H01S5/22 |
专利代理人 | 米文智 |
代理机构 | 石家庄国为知识产权事务所 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46474 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 车相辉,赵润,曹晨涛,等. 窄发散角脊波导半导体激光器. CN104466675B[P]. 2017-08-29. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN104466675B.PDF(726KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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