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窄发散角脊波导半导体激光器
其他题名窄发散角脊波导半导体激光器
车相辉; 赵润; 曹晨涛; 陈宏泰; 宁吉丰; 张宇; 位永平; 郝文嘉; 王彦照; 林琳; 杨红伟
2017-08-29
专利权人中国电子科技集团公司第十三研究所
公开日期2017-08-29
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明公开了一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层、缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱区、上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层;在缓冲层和N型限制层之间还设有扩展波导层,扩展波导层为N型InGaAsP材料,扩展波导层的厚度为0.2μm‑0.5μm,下波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层到多量子阱区的距离为1μm‑2μm;P型限制层和电极接触层设置在腐蚀阻挡层的纵向中部,构成脊波导;采用小球透镜封装。本发明减小了垂直发散角,提高耦合效率,温度特性能满足要求,工艺过程简化,提高芯片成品率,成本低廉。
其他摘要本发明公开了一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层、缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱区、上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层;在缓冲层和N型限制层之间还设有扩展波导层,扩展波导层为N型InGaAsP材料,扩展波导层的厚度为0.2μm‑0.5μm,下波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层到多量子阱区的距离为1μm‑2μm;P型限制层和电极接触层设置在腐蚀阻挡层的纵向中部,构成脊波导;采用小球透镜封装。本发明减小了垂直发散角,提高耦合效率,温度特性能满足要求,工艺过程简化,提高芯片成品率,成本低廉。
主权项一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层(1)、在衬底层(1)上由下至上依次设有的缓冲层(2)、N型限制层(4)、下限制层(5)、下波导层(6)、多量子阱区(7)、上波导层(8)、上限制层(9)、腐蚀阻挡层(10)、P型限制层(11)和电极接触层(12);其特征在于在缓冲层(2)和N型限制层(4)之间还设有扩展波导层(3),所述扩展波导层(3)为N型InGaAsP材料,扩展波导层(3)的厚度为0.2μm-0.5μm,所述下波导层(6)的厚度为0.05μm-0.15μm,上波导层(8)的厚度为0.05μm-0.15μm,扩展波导层(3)到多量子阱区(7)的距离为1μm-2μm;所述P型限制层(11)和电极接触层(12)设置在腐蚀阻挡层(10)的纵向中部,构成脊波导;采用直径为5mm-2.0mm的小球透镜封装。
申请日期2014-12-15
专利号CN104466675B
专利状态授权
申请号CN201410770523.4
公开(公告)号CN104466675B
IPC 分类号H01S5/22
专利代理人米文智
代理机构石家庄国为知识产权事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46474
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国电子科技集团公司第十三研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
车相辉,赵润,曹晨涛,等. 窄发散角脊波导半导体激光器. CN104466675B[P]. 2017-08-29.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
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