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一種具金屬反射鏡之面射型雷射二極體之製作方法
其他题名一種具金屬反射鏡之面射型雷射二極體之製作方法
洪瑞華; 武東星; 彭韋智; 何文章; 黃英勳
2002-12-21
专利权人中華電信股份有限公司
公开日期2002-12-21
授权国家中国台湾
专利类型授权发明
摘要一種具金屬反射鏡之面射型雷射二極體之製作方法,主要係以金屬鏡面配合晶片鍵合技術,來取代傳統以磊晶方式或高溫高壓晶片鍵合技術製作VCSEL之布拉格反射鏡。由於金屬鏡面具高反射率,且可選擇與VCSEL材料形成歐姆接觸之金屬,又金屬鏡面之基板可選擇價格便宜且散熱好之基板,其製程簡單且有製作成本便宜、VCSEL特性良好等優點。
其他摘要一種具金屬反射鏡之面射型雷射二極體之製作方法,主要係以金屬鏡面配合晶片鍵合技術,來取代傳統以磊晶方式或高溫高壓晶片鍵合技術製作VCSEL之布拉格反射鏡。由於金屬鏡面具高反射率,且可選擇與VCSEL材料形成歐姆接觸之金屬,又金屬鏡面之基板可選擇價格便宜且散熱好之基板,其製程簡單且有製作成本便宜、VCSEL特性良好等優點。
主权项-
申请日期2001-08-15
专利号TW515135B
专利状态失效
申请号TW090119960
公开(公告)号TW515135B
IPC 分类号H01S5/183 | H01S3/18
专利代理人江舟峰
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45566
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中華電信股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
洪瑞華,武東星,彭韋智,等. 一種具金屬反射鏡之面射型雷射二極體之製作方法. TW515135B[P]. 2002-12-21.
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