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半导体激光器及劈开方法
其他题名半导体激光器及劈开方法
木户口勳; 足立秀人; 熊渕康仁
2003-11-26
专利权人松下电器产业株式会社
公开日期2003-11-26
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要在具有一活性层和其间插入该活性层的一包层结构的半导体激光器中,该包层结构包括一可饱和吸收层,且该可饱和吸收层由InGaAs P形成。
其他摘要在具有一活性层和其间插入该活性层的一包层结构的半导体激光器中,该包层结构包括一可饱和吸收层,且该可饱和吸收层由InGaAs P形成。
主权项一种半导体激光器,包括一活性层和其间插入该活性层的一包层结构, 其中该包层结构包括一可饱和吸收层,且该可饱和吸收层由InxGa1-xAsyP1-y(o<x<1,o≤y≤1)形成。
申请日期1997-02-28
专利号CN1129218C
专利状态失效
申请号CN97190228.3
公开(公告)号CN1129218C
IPC 分类号H01S5/02 | H01S5/065 | H01S5/223 | H01S5/30 | H01S3/00 | H01L21/304
专利代理人韩宏
代理机构永新专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45498
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下电器产业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
木户口勳,足立秀人,熊渕康仁. 半导体激光器及劈开方法. CN1129218C[P]. 2003-11-26.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
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