圖形曝光方法以及圖形曝光裝置

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	圖形曝光方法以及圖形曝光裝置
其他题名	圖形曝光方法以及圖形曝光裝置
	押田良忠; 內藤芳達; 鈴木光弘; 內山文二; 山口剛
	2011-10-21
专利权人	日立比亞機械股份有限公司
公开日期	2011-10-21
授权国家	中国香港
专利类型	授权发明
摘要	本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。
其他摘要	本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。
主权项	一种图形曝光装置，其特征在于，包括：多个半导体激光器；准直透镜，把从所述多个半导体激光器出射的出射光变成平行光；多光束平行光学机构，使从所述准直透镜出射的多束平行光相互平行；多光束光斑形成光学系统，包括fθ透镜，具有使所述多个相互平行的光束直径不变地在与扫描方向正交的副扫描方向缩小所述平行光束间的距离的光束直径不变的光束间距缩小机构，并进行缩小以使光束光斑在fθ透镜的刻蚀面排列成侧边平行于主扫描方向、并且在副扫描方向具有多个列的形状；载物台，搭载利用由该多光束光斑形成光学系统形成的多光斑进行曝光的基板；扫描机构，在平行于所述主扫描方向的方向进行扫描，由此，以使在所述扫描中至少一处通过至少两个光斑连续被曝光的方式，使所述多光斑与所述载物台相对扫描；以及控制电路，根据所望的曝光刻蚀图形和所述半导体激光器的排列以及所述相对扫描的速度使所述多个半导体激光器开启和关闭。
申请日期	2006-03-02
专利号	HK1082970A1
专利状态	失效
申请号	HK06102763
公开（公告）号	HK1082970A1
IPC 分类号	G02B26/10 \| G02B \| G02B26/12 \| G03B27/54 \| G03F \| G03F7/20 \| G03F7/22
专利代理人	-
代理机构	中國專利代理(香港)有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45266
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	日立比亞機械股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	押田良忠,內藤芳達,鈴木光弘,等. 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置. HK1082970A1[P]. 2011-10-21.