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一种半导体激光泵浦匀化耦合装置
其他题名一种半导体激光泵浦匀化耦合装置
张卫; 唐淳; 尚建力; 于益; 安向超; 万敏; 高清松
2015-04-22
专利权人中国工程物理研究院应用电子学研究所
公开日期2015-04-22
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型提供了一种半导体激光泵浦匀化耦合装置的技术方案,该方案可以将多个半导体激光器垂直叠阵组成的二维半导体激光器叠阵输出光束均匀的会聚在固体激光增益介质表面上,介质表面上的泵浦光斑尺寸为几毫米至几十毫米量级。该方案可耦合注入泵浦功率高,并且结构简单,耦合效率高、成本低、调试方便。
其他摘要本实用新型提供了一种半导体激光泵浦匀化耦合装置的技术方案,该方案可以将多个半导体激光器垂直叠阵组成的二维半导体激光器叠阵输出光束均匀的会聚在固体激光增益介质表面上,介质表面上的泵浦光斑尺寸为几毫米至几十毫米量级。该方案可耦合注入泵浦功率高,并且结构简单,耦合效率高、成本低、调试方便。
主权项一种半导体激光泵浦匀化耦合装置,其特征是:包括有泵浦源、快轴柱面镜、慢轴柱面镜组、激光增益介质;所述泵浦源包括有多个沿慢轴方向排列的BAR条组成的多个垂直叠阵;所述BAR条的宽度为a;所述每个垂直叠阵的中线为L1、L2、……Li、Li+1,Li到Li+1的距离为b,3a>b>a;所述快轴柱面镜设置在泵浦源快轴方向上的发光路径上;所述快轴柱面镜在快轴方向上具有屈光度;所述慢轴柱面镜组设置在泵浦源慢轴方向上的发光路径上;所述慢轴柱面镜组在慢轴方向上具有屈光度;所述激光增益介质分别设置在泵浦源发出的激光在快轴方向上或慢轴方向上均匀性最佳的界面上。
申请日期2014-12-11
专利号CN204290027U
专利状态授权
申请号CN201420783662.6
公开(公告)号CN204290027U
IPC 分类号H01S3/0941 | H01S3/02
专利代理人卿诚 | 吴彦峰
代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45119
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国工程物理研究院应用电子学研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张卫,唐淳,尚建力,等. 一种半导体激光泵浦匀化耦合装置. CN204290027U[P]. 2015-04-22.
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