一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统

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	一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
其他题名	一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
	王敏; 王警卫; 蔡万绍; 刘兴胜
	2016-10-05
专利权人	西安炬光科技股份有限公司
公开日期	2016-10-05
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
其他摘要	本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
主权项	一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出TE光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TE光进行透射，对TM光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板；在半导体激光器叠阵出光光路之外还设置有指示光源，所述指示光源发出的光肉眼可辨识且与半导体激光器叠阵发出的光相区别；所述的半导体激光器叠阵具有多个巴条，对应于叠阵中部巴条的位置在半导体激光器叠阵的出光光路上背向设置一个反射镜，反射镜成45度角设置于半导体激光器叠阵与偏振合束片之间，反射镜的面积设置为刚好覆盖指示光源发出的指示光，从而尽可能减小反射镜对其他巴条出光的阻挡；所述指示光源位于半导体激光器叠阵出光光路之外，指示光源发出的光垂直于半导体激光器叠阵出光光路，经反射镜反射后与激光平行出射。
申请日期	2013-10-29
专利号	CN103545716B
专利状态	授权
申请号	CN201310524999
公开（公告）号	CN103545716B
IPC 分类号	H01S5/40 \| H01S5/068 \| H01S5/06 \| G02B27/28 \| G02B7/182 \| B23K26/70
专利代理人	胡乐
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45028
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	王敏,王警卫,蔡万绍,等. 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统. CN103545716B[P]. 2016-10-05.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN103545716B.PDF（63KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文