Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 一种Y型228nm激光发射装置 | |
| 其他题名 | 一种Y型228nm激光发射装置 |
| 李再金; 李林; 赵志斌; 曾丽娜; 曲轶; 彭鸿雁 | |
| 专利权人 | 海南师范大学 |
| 公开日期 | 2019-01-04 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 本发明公开了一种Y型228nm激光发射装置，包括808nm半导体激光器；前后面镀808nm增透膜的聚焦镜；前面镀914nm高反膜，808nm、1064nm和1342nm增透膜，后面镀914nm高反膜，1064nm和1342nm增透膜的Nd:YVO4；前面镀入射角为15°时914nm高反膜，457nm、1064nm和1342 nm增透膜，后面镀入射角为15°时228nm高反膜，457nm增透膜的平面镜；前后面镀457nm和914nm增透膜的LBO；凹面镀457nm和914nm高反膜的平凹镜；前后面镀228nm和457nm增透膜的BBO；凹面镀457nm高反膜、228nm增透膜，平面镀228nm高反膜的平凹镜；中心波长为228nm±5nm滤光片。该装置实现了228nm激光发射。 |
| 其他摘要 | 本发明公开了一种Y型228nm激光发射装置，包括808nm半导体激光器；前后面镀808nm增透膜的聚焦镜；前面镀914nm高反膜，808nm、1064nm和1342nm增透膜，后面镀914nm高反膜，1064nm和1342nm增透膜的Nd:YVO4；前面镀入射角为15°时914nm高反膜，457nm、1064nm和1342 nm增透膜，后面镀入射角为15°时228nm高反膜，457nm增透膜的平面镜；前后面镀457nm和914nm增透膜的LBO；凹面镀457nm和914nm高反膜的平凹镜；前后面镀228nm和457nm增透膜的BBO；凹面镀457nm高反膜、228nm增透膜，平面镀228nm高反膜的平凹镜；中心波长为228nm±5nm滤光片。该装置实现了228nm激光发射。 |
| 申请日期 | 2018-09-15 |
| 专利号 | CN109142300A |
| 专利状态 | 申请中 |
| 申请号 | CN201811077064.6 |
| 公开（公告）号 | CN109142300A |
| IPC 分类号 | G01N21/64 |
| 专利代理人 | - |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43328 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 海南师范大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李再金,李林,赵志斌,等. 一种Y型228nm激光发射装置. CN109142300A. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN109142300A.PDF（248KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [李再金]的文章 |
| [李林]的文章 |
| [赵志斌]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [李再金]的文章 |
| [李林]的文章 |
| [赵志斌]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [李再金]的文章 |
| [李林]的文章 |
| [赵志斌]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论