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半导体泵浦铥激光装置
其他题名半导体泵浦铥激光装置
王援柱
2012-09-19
专利权人上海瑞柯恩激光技术有限公司
公开日期2012-09-19
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要一种半导体泵浦铥激光装置,主要由设有Tm:YAG晶体的聚光腔体、全反射镜、输出镜、激光耦合器和输出光纤组成,所述Tm:YAG晶体水平置于聚光腔体的中心;Tm:YAG晶体的外侧套有导流管;该导流管外设有陶瓷聚光腔;泵浦源采用波长785nm的大功率半导体激光模块;聚光腔体内通入冷却液。当泵浦源采用3个波长为785nm的大功率半导体激光模块时,所述陶瓷聚光腔呈等边三棱柱形,3个大功率半导体激光泵浦模块置于等边三棱柱的3个边上,它们所产生的785nm激光各经过一个柱面镜聚焦到Tm:YAG晶体上,并在陶瓷腔内产生漫反射。采用半导体激光模块作泵浦源大大提高了泵浦效率,从而可以研制出大功率铥激光装置。
其他摘要一种半导体泵浦铥激光装置,主要由设有Tm:YAG晶体的聚光腔体、全反射镜、输出镜、激光耦合器和输出光纤组成,所述Tm:YAG晶体水平置于聚光腔体的中心;Tm:YAG晶体的外侧套有导流管;该导流管外设有陶瓷聚光腔;泵浦源采用波长785nm的大功率半导体激光模块;聚光腔体内通入冷却液。当泵浦源采用3个波长为785nm的大功率半导体激光模块时,所述陶瓷聚光腔呈等边三棱柱形,3个大功率半导体激光泵浦模块置于等边三棱柱的3个边上,它们所产生的785nm激光各经过一个柱面镜聚焦到Tm:YAG晶体上,并在陶瓷腔内产生漫反射。采用半导体激光模块作泵浦源大大提高了泵浦效率,从而可以研制出大功率铥激光装置。
授权日期2012-09-19
申请日期2012-02-10
专利号CN202444175U
专利状态授权
申请号CN201220043412.X
公开(公告)号CN202444175U
IPC 分类号H01S3/0941
专利代理人李琳
代理机构上海天协和诚知识产权代理事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43130
专题半导体激光器专利数据库
作者单位上海瑞柯恩激光技术有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王援柱. 半导体泵浦铥激光装置. CN202444175U[P]. 2012-09-19.
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CN202444175U.PDF(509KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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