一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置

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	一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置
其他题名	一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置
	王旭葆; 陈中强
	2012-09-12
专利权人	宁海县盛源激光科技有限公司
公开日期	2012-09-12
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型提供了一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置，包括A堆栈(1)、A整形透镜(11)、B堆栈(2)、B整形透镜(21)、耦合镜(3)、整形透镜(4)、反射聚焦镜(5)、进风口(6)、光闸(7)、屏蔽箱(8)。本实用新型采用耦合镜将二束激光叠加以提高激光的输出功率；屏蔽箱将装置内部与外部环境隔离，进风口输入正压空气以阻止外部的尘垢侵入并对箱内诸器件进行风冷；光闸的光阑作用阻隔外部漫射光热逆向回传；反射聚焦镜将沿光路逆向回传的光热吸收并加以冷却的技术方案，通过耦合叠加、封闭隔离、光阑阻逆、反射吸热、正压风冷使半导体激光发生器达到了提高输出功率、阻隔尘垢侵害、避免回传和自身光热损伤的目的。
其他摘要	本实用新型提供了一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置，包括A堆栈(1)、A整形透镜(11)、B堆栈(2)、B整形透镜(21)、耦合镜(3)、整形透镜(4)、反射聚焦镜(5)、进风口(6)、光闸(7)、屏蔽箱(8)。本实用新型采用耦合镜将二束激光叠加以提高激光的输出功率；屏蔽箱将装置内部与外部环境隔离，进风口输入正压空气以阻止外部的尘垢侵入并对箱内诸器件进行风冷；光闸的光阑作用阻隔外部漫射光热逆向回传；反射聚焦镜将沿光路逆向回传的光热吸收并加以冷却的技术方案，通过耦合叠加、封闭隔离、光阑阻逆、反射吸热、正压风冷使半导体激光发生器达到了提高输出功率、阻隔尘垢侵害、避免回传和自身光热损伤的目的。
授权日期	2012-09-12
申请日期	2012-01-10
专利号	CN202434886U
专利状态	失效
申请号	CN201220024201
公开（公告）号	CN202434886U
IPC 分类号	H01S5/024 \| H01S5/10
专利代理人	-
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42980
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	宁海县盛源激光科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	王旭葆,陈中强. 一种大功率双波长半导体矩形激光发生装置. CN202434886U[P]. 2012-09-12.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN202434886U.PDF（91KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文