一种激光二极管的分布调整结构

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	一种激光二极管的分布调整结构
其他题名	一种激光二极管的分布调整结构
	李晙圣; 冯国试
	2011-02-09
专利权人	爱铭数码株式会社
公开日期	2011-02-09
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型公开了一种激光二极管的分布调整结构，包括承载光拾取器的基体以及设于基体上的激光二极管，所述的基体上方设有活动板，活动板上通过螺丝固定有安装架，激光二极管设于安装架上，所述的活动板两端分别设有安装孔和通孔，安装孔和通孔内分别设有固定螺杆和调整螺杆，两螺杆的底端旋接在基体上，固定螺杆上端部和活动板之间安装有固定弹簧，活动板底端设有球面，基体表面设有与球面对应的凹陷部；本实用新型的激光二极管设于活动板上，活动板一端通过固定螺杆限位，一端安装有调整螺杆，这样可通过旋转调整螺杆来使活动板倾斜，进而改变激光二极管光线的径向分布，提高光的利用效率和激光二极管的使用寿命。
其他摘要	本实用新型公开了一种激光二极管的分布调整结构，包括承载光拾取器的基体以及设于基体上的激光二极管，所述的基体上方设有活动板，活动板上通过螺丝固定有安装架，激光二极管设于安装架上，所述的活动板两端分别设有安装孔和通孔，安装孔和通孔内分别设有固定螺杆和调整螺杆，两螺杆的底端旋接在基体上，固定螺杆上端部和活动板之间安装有固定弹簧，活动板底端设有球面，基体表面设有与球面对应的凹陷部；本实用新型的激光二极管设于活动板上，活动板一端通过固定螺杆限位，一端安装有调整螺杆，这样可通过旋转调整螺杆来使活动板倾斜，进而改变激光二极管光线的径向分布，提高光的利用效率和激光二极管的使用寿命。
授权日期	2011-02-09
申请日期	2010-08-04
专利号	CN201741389U
专利状态	失效
申请号	CN201020287744.3
公开（公告）号	CN201741389U
IPC 分类号	G11B7/09
专利代理人	曹玉平
代理机构	天津市北洋有限责任专利代理事务所
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42911
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	爱铭数码株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	李晙圣,冯国试. 一种激光二极管的分布调整结构. CN201741389U[P]. 2011-02-09.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN201741389U.PDF（164KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文