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双波长半导体激光装置及其制造方法
其他题名双波长半导体激光装置及其制造方法
粂雅博; 高山彻; 高须贺祥一; 木户口勋
2011-11-16
专利权人松下电器产业株式会社
公开日期2011-11-16
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明提供一种双波长半导体激光装置及其制造方法,其可以抑制由掺杂剂的扩散引起的不良状况的产生。本发明的双波长半导体激光装置,在化合物半导体构成的基板(10)上,堆积第1半导体激光元件(1)和第2半导体激光元件(2),将所述第1半导体激光元件(1)的蚀刻阻止层(15)的构成材料用和第2半导体激光元件(2)的蚀刻阻止层(25)的构成材料相比杂质不易扩散的材料。
其他摘要本发明提供一种双波长半导体激光装置及其制造方法,其可以抑制由掺杂剂的扩散引起的不良状况的产生。本发明的双波长半导体激光装置,在化合物半导体构成的基板(10)上,堆积第1半导体激光元件(1)和第2半导体激光元件(2),将所述第1半导体激光元件(1)的蚀刻阻止层(15)的构成材料用和第2半导体激光元件(2)的蚀刻阻止层(25)的构成材料相比杂质不易扩散的材料。
授权日期2011-11-16
申请日期2008-09-19
专利号CN101394065B
专利状态失效
申请号CN200810213598.7
公开(公告)号CN101394065B
IPC 分类号H01S5/40 | H01S5/30 | H01S5/343
专利代理人汪惠民
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42581
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下电器产业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
粂雅博,高山彻,高须贺祥一,等. 双波长半导体激光装置及其制造方法. CN101394065B[P]. 2011-11-16.
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