一种控制制冷装置结露的系统

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	一种控制制冷装置结露的系统
其他题名	一种控制制冷装置结露的系统
	高文宏; 郭泽彬; 赵鹏飞; 郭金榜; 李孟; 王锦伟; 侯茜
	2018-10-12
专利权人	北京镭创高科光电科技有限公司
公开日期	2018-10-12
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型公开了一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，包括处理器以及分别和处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将温度和湿度发送至处理器；处理器，用于根据温度和湿度，确定制冷装置当前时刻工作环境的露点温度，并判断露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本实用新型中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性。
其他摘要	本实用新型公开了一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，包括处理器以及分别和处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将温度和湿度发送至处理器；处理器，用于根据温度和湿度，确定制冷装置当前时刻工作环境的露点温度，并判断露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本实用新型中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性。
授权日期	2018-10-12
申请日期	2017-11-13
专利号	CN207965685U
专利状态	授权
申请号	CN201721512106.5
公开（公告）号	CN207965685U
IPC 分类号	G05D23/20 \| H01S5/024
专利代理人	罗满
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41358
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	北京镭创高科光电科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	高文宏,郭泽彬,赵鹏飞,等. 一种控制制冷装置结露的系统. CN207965685U[P]. 2018-10-12.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN207965685U.PDF（489KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文