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一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置
其他题名一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置
邹文龙; 李朝明; 陈新荣; 蔡志坚; 吴建宏
2018-06-19
专利权人苏州大学
公开日期2018-06-19
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置,包括半导体激光器、斩波器、检测光系统、参考光系统和光电探测装置,装置的核心功能:采用多个波长的半导体激光器入射到金属介质膜光栅表面,检测光系统采集‑1级衍射光,并通过二维扫描大面积金属介质膜光栅,完成整个光栅面的衍射效率的测量。本新装置采用了双光路检测和斩波器,抑制激光器功率漂移和环境背景光干扰。
其他摘要本实用新型公开了一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置,包括半导体激光器、斩波器、检测光系统、参考光系统和光电探测装置,装置的核心功能:采用多个波长的半导体激光器入射到金属介质膜光栅表面,检测光系统采集‑1级衍射光,并通过二维扫描大面积金属介质膜光栅,完成整个光栅面的衍射效率的测量。本新装置采用了双光路检测和斩波器,抑制激光器功率漂移和环境背景光干扰。
授权日期2018-06-19
申请日期2017-11-27
专利号CN207515999U
专利状态授权
申请号CN201721608952
公开(公告)号CN207515999U
IPC 分类号G01M11/02
专利代理人张欢勇
代理机构无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40954
专题半导体激光器专利数据库
作者单位苏州大学
推荐引用方式
GB/T 7714
邹文龙,李朝明,陈新荣,等. 一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置. CN207515999U[P]. 2018-06-19.
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