一种镭射机的镭射装置

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	一种镭射机的镭射装置
其他题名	一种镭射机的镭射装置
	李永科; 李朋博; 贾玉芝; 赵彦平
	2018-03-30
专利权人	深圳市德盛兴实业有限公司
公开日期	2018-03-30
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型公开了一种镭射机的镭射装置，其结构包括：装置壳体、保护膜、新型镭射装置、调节转轮、转动盘、调节器、支持柱、固定座、连接底座、激光二极管、主控芯片、电子板、电容、接线端子、电阻，激光二极管位于电子板上表面的中央并且与电子板电连接，主控芯片位于激光二极管的左右两侧并且与电子板固定连接，电容位于主控芯片的后侧并且与电子板活动连接，电阻位于电子板上表面的右侧并且与电子板活动连接，接线端子位于电子板上表面的内侧，接线端子与装置壳体相连接，本实用新型的一种镭射机的镭射装置，采用上新型镭射装置后，可以达到使得镭射装置能够在稳压的电路下进行运作，从而能够避免镭射灯不稳与使用寿命的减短的目的。
其他摘要	本实用新型公开了一种镭射机的镭射装置，其结构包括：装置壳体、保护膜、新型镭射装置、调节转轮、转动盘、调节器、支持柱、固定座、连接底座、激光二极管、主控芯片、电子板、电容、接线端子、电阻，激光二极管位于电子板上表面的中央并且与电子板电连接，主控芯片位于激光二极管的左右两侧并且与电子板固定连接，电容位于主控芯片的后侧并且与电子板活动连接，电阻位于电子板上表面的右侧并且与电子板活动连接，接线端子位于电子板上表面的内侧，接线端子与装置壳体相连接，本实用新型的一种镭射机的镭射装置，采用上新型镭射装置后，可以达到使得镭射装置能够在稳压的电路下进行运作，从而能够避免镭射灯不稳与使用寿命的减短的目的。
授权日期	2018-03-30
申请日期	2017-09-01
专利号	CN207155000U
专利状态	授权
申请号	CN201721114519.8
公开（公告）号	CN207155000U
IPC 分类号	B23K26/00 \| B23K26/70
专利代理人	-
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40614
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	深圳市德盛兴实业有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	李永科,李朋博,贾玉芝,等. 一种镭射机的镭射装置. CN207155000U[P]. 2018-03-30.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN207155000U.PDF（90KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文