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用于3D成像的激光阵列、设备及激光投影装置
其他题名用于3D成像的激光阵列、设备及激光投影装置
王兆民; 闫敏; 许星
2018-03-23
专利权人深圳奥比中光科技有限公司
公开日期2018-03-23
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了一种用于3D成像的激光阵列、设备及激光投影装置,其中用于3D成像的激光阵列包括:在半导体衬底上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源;所述二维阵列包括多个子阵列,所述子阵列共用同一个圆心,共用同一个圆心的子阵列构成的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性,二维阵列对应的是VCSEL光源的分布情况,从而分布在半导体衬底表面的VCSEL光源具有极高的不相关性,解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源的不相关性低的问题,本实用新型的激光阵列主要应用在深度相机中。
其他摘要本实用新型公开了一种用于3D成像的激光阵列、设备及激光投影装置,其中用于3D成像的激光阵列包括:在半导体衬底上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源;所述二维阵列包括多个子阵列,所述子阵列共用同一个圆心,共用同一个圆心的子阵列构成的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性,二维阵列对应的是VCSEL光源的分布情况,从而分布在半导体衬底表面的VCSEL光源具有极高的不相关性,解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源的不相关性低的问题,本实用新型的激光阵列主要应用在深度相机中。
授权日期2018-03-23
申请日期2017-05-04
专利号CN207134608U
专利状态授权
申请号CN201720489039.3
公开(公告)号CN207134608U
IPC 分类号H01S5/42 | G03B15/02 | G03B35/00
专利代理人江耀纯
代理机构深圳新创友知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40567
专题半导体激光器专利数据库
作者单位深圳奥比中光科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王兆民,闫敏,许星. 用于3D成像的激光阵列、设备及激光投影装置. CN207134608U[P]. 2018-03-23.
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