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多密度图案投影仪
其他题名多密度图案投影仪
王兆民; 许星
2018-03-23
专利权人深圳奥比中光科技有限公司
公开日期2018-03-23
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型提供一种多密度图案投影仪,包括光源、透镜以及衍射光学元件,其中光源为VCSEL阵列光源,包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列,并且4个独立控制的VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次减少,以满足不同密度结构光图案的投影。基于该多密度图案投影仪的深度相机可以用来获取不同精度的深度图像从而适用于多种应用。
其他摘要本实用新型提供一种多密度图案投影仪,包括光源、透镜以及衍射光学元件,其中光源为VCSEL阵列光源,包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列,并且4个独立控制的VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次减少,以满足不同密度结构光图案的投影。基于该多密度图案投影仪的深度相机可以用来获取不同精度的深度图像从而适用于多种应用。
授权日期2018-03-23
申请日期2017-07-12
专利号CN207133564U
专利状态授权
申请号CN201720838943.0
公开(公告)号CN207133564U
IPC 分类号G03B21/20
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40562
专题半导体激光器专利数据库
作者单位深圳奥比中光科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王兆民,许星. 多密度图案投影仪. CN207133564U[P]. 2018-03-23.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN207133564U.PDF(135KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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