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一种应变补偿型半导体激光器结构
其他题名一种应变补偿型半导体激光器结构
韦欣; 徐建人
2018-03-02
专利权人嘉兴海创激光科技有限公司
公开日期2018-03-02
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了一种应变补偿型半导体激光器结构,包括衬底层以及在所述衬底层由下至上依次生长的缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层和欧姆接触层,所述有源层为应变补偿量子阱材料。在本实用新型的上述结构中使用应变方向与量子阱中阱材料相反的材料做垒材料,来平衡阱材料的应变,减小宏观应变,推迟或者抑制位错的产生,器件的最大输出功率有效提高。
其他摘要本实用新型公开了一种应变补偿型半导体激光器结构,包括衬底层以及在所述衬底层由下至上依次生长的缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层和欧姆接触层,所述有源层为应变补偿量子阱材料。在本实用新型的上述结构中使用应变方向与量子阱中阱材料相反的材料做垒材料,来平衡阱材料的应变,减小宏观应变,推迟或者抑制位错的产生,器件的最大输出功率有效提高。
授权日期2018-03-02
申请日期2017-07-31
专利号CN207069288U
专利状态授权
申请号CN201720944655.3
公开(公告)号CN207069288U
IPC 分类号H01S5/343
专利代理人李伊飏
代理机构嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40514
专题半导体激光器专利数据库
作者单位嘉兴海创激光科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
韦欣,徐建人. 一种应变补偿型半导体激光器结构. CN207069288U[P]. 2018-03-02.
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