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雷射顯微摘取系統
其他题名雷射顯微摘取系統
陳建銘; 李仁愛
2009-01-21
专利权人陳建銘
公开日期2009-01-21
授权国家中国台湾
专利类型实用新型
摘要一種雷射顯微摘取系統,包括一位移調整單元、一光學單元及一電子單元。電子單元係電性連接於該位移調整單元。光學單元包括一雷射光源及一光纖。雷射光源係電性連接於電子單元,以藉由電子單元控制其觸發時間。光纖耦合於雷射光源,並具有一探針端。探針端之孔徑小於200奈米,並且固定於位移調整單元上。
其他摘要一種雷射顯微摘取系統,包括一位移調整單元、一光學單元及一電子單元。電子單元係電性連接於該位移調整單元。光學單元包括一雷射光源及一光纖。雷射光源係電性連接於電子單元,以藉由電子單元控制其觸發時間。光纖耦合於雷射光源,並具有一探針端。探針端之孔徑小於200奈米,並且固定於位移調整單元上。
授权日期2009-01-21
申请日期2008-04-23
专利号TWM349257U
专利状态失效
申请号TW097206936
公开(公告)号TWM349257U
IPC 分类号A61B18/20 | H01S5/00
专利代理人莊世超
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39990
专题半导体激光器专利数据库
作者单位陳建銘
推荐引用方式
GB/T 7714
陳建銘,李仁愛. 雷射顯微摘取系統. TWM349257U[P]. 2009-01-21.
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TWM349257U.PDF(973KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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