一种产生双环聚焦光束的光学系统

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	一种产生双环聚焦光束的光学系统
其他题名	一种产生双环聚焦光束的光学系统
	于浩洋
	2019-09-20
专利权人	苏州视信威智能系统有限公司
公开日期	2019-09-20
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型揭示了一种产生双环聚焦光束的光学系统，该系统包括在同一光路上依次设置的激光器、准直扩束系统、阶梯锥面透镜、聚焦透镜，激光器发出激光经过准直扩束系统后形成准直扩束光束，准直扩束光束经过光阑限制后，正入射阶梯锥面透镜；阶梯锥面透镜的入射面为平面，出射面包括第一锥面和第二锥面，第一锥面的锥面底角为，第二锥面的锥面底角为，第一锥面与第二锥面同心设置，第二锥面位于阶梯锥面透镜中心位置，第一锥面位于第二锥面外围环形区域，第一锥面的锥面底角小于第二锥面的锥面底角该系统可以有效地实现激光的整形、扩束和匀光效果，整形后的光束质量高，适用于环形光镊系统的粒子操控研究。
其他摘要	本实用新型揭示了一种产生双环聚焦光束的光学系统，该系统包括在同一光路上依次设置的激光器、准直扩束系统、阶梯锥面透镜、聚焦透镜，激光器发出激光经过准直扩束系统后形成准直扩束光束，准直扩束光束经过光阑限制后，正入射阶梯锥面透镜；阶梯锥面透镜的入射面为平面，出射面包括第一锥面和第二锥面，第一锥面的锥面底角为，第二锥面的锥面底角为，第一锥面与第二锥面同心设置，第二锥面位于阶梯锥面透镜中心位置，第一锥面位于第二锥面外围环形区域，第一锥面的锥面底角小于第二锥面的锥面底角该系统可以有效地实现激光的整形、扩束和匀光效果，整形后的光束质量高，适用于环形光镊系统的粒子操控研究。
授权日期	2019-09-20
申请日期	2018-07-01
专利号	CN209417434U
专利状态	授权
申请号	CN201821026936.1
公开（公告）号	CN209417434U
IPC 分类号	G02B27/09 \| B23K26/064
专利代理人	范丹丹
代理机构	南京苏科专利代理有限责任公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39785
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	苏州视信威智能系统有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	于浩洋. 一种产生双环聚焦光束的光学系统. CN209417434U[P]. 2019-09-20.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN209417434U.PDF（443KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文