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一种宏通道垂直腔面发射半导体激光器
其他题名一种宏通道垂直腔面发射半导体激光器
华俊
2019-09-17
专利权人西安欧益光电科技有限公司
公开日期2019-09-17
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型提供一种宏通道垂直腔面发射半导体激光器,包括激光模块(1)和热沉模块(2),热沉模块(2)包括热沉主体(21),设置于热沉主体(21)下端的左右两侧的进水孔(22)、出水孔(23),设置在热沉主体(21)中部,用于分隔进水孔(22)、出水孔(23)的隔板(24),隔板(24)下端与热沉主体(21)密封连接,隔板(24)上端与热沉主体(21)顶部存在间隙,用于形成水通道。本实用新型提供的宏通道垂直腔面发射半导体激光器设计了一种新的热沉结构,提高激光器散热效率,外形小巧,结构简单。
其他摘要本实用新型提供一种宏通道垂直腔面发射半导体激光器,包括激光模块(1)和热沉模块(2),热沉模块(2)包括热沉主体(21),设置于热沉主体(21)下端的左右两侧的进水孔(22)、出水孔(23),设置在热沉主体(21)中部,用于分隔进水孔(22)、出水孔(23)的隔板(24),隔板(24)下端与热沉主体(21)密封连接,隔板(24)上端与热沉主体(21)顶部存在间隙,用于形成水通道。本实用新型提供的宏通道垂直腔面发射半导体激光器设计了一种新的热沉结构,提高激光器散热效率,外形小巧,结构简单。
授权日期2019-09-17
申请日期2019-01-10
专利号CN209401977U
专利状态授权
申请号CN201920037365.X
公开(公告)号CN209401977U
IPC 分类号H01S5/024 | H01S5/183
专利代理人王辉
代理机构北京巨弘知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38908
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安欧益光电科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
华俊. 一种宏通道垂直腔面发射半导体激光器. CN209401977U[P]. 2019-09-17.
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CN209401977U.PDF(286KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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