一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统

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	一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统
其他题名	一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统
	姜华; 张书明; 孙煜; 李红; 范毅; 贺永喜; 丁爽; 王岩
	2019-03-08
专利权人	北京航天发射技术研究所
公开日期	2019-03-08
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	本发明涉及准直控制技术领域，是一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的瞄准准直的光学系统，主要瞄准光机设备为光电瞄准仪，主要涉及光电瞄准仪的光学系统，包括望远系统、发光系统、分光棱镜和横轴，望远系统和发光系统相互垂直且与横轴共同随动，发光系统内设有光束整形透镜组和分划板，光源经过光束整形透镜组整形后聚焦到分划板上，然后经分光棱镜由望远系统入射到目标棱镜上。本发明的提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统是通过对半导体激光光源整形和随动机构组件的优化设计，实现当目标棱镜相对发光系统出射光斑上下偏移±25mm，左右偏移±30mm条件下，准直零位偏差不大于10″，准直测量精度满足15″要求。
其他摘要	本发明涉及准直控制技术领域，是一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的瞄准准直的光学系统，主要瞄准光机设备为光电瞄准仪，主要涉及光电瞄准仪的光学系统，包括望远系统、发光系统、分光棱镜和横轴，望远系统和发光系统相互垂直且与横轴共同随动，发光系统内设有光束整形透镜组和分划板，光源经过光束整形透镜组整形后聚焦到分划板上，然后经分光棱镜由望远系统入射到目标棱镜上。本发明的提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统是通过对半导体激光光源整形和随动机构组件的优化设计，实现当目标棱镜相对发光系统出射光斑上下偏移±25mm，左右偏移±30mm条件下，准直零位偏差不大于10″，准直测量精度满足15″要求。
授权日期	2019-03-08
申请日期	2016-07-14
专利号	CN106199993B
专利状态	授权
申请号	CN201610552126
公开（公告）号	CN106199993B
IPC 分类号	G02B27/30
专利代理人	朱晓蕾
代理机构	北京国之大铭知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38284
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	北京航天发射技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	姜华,张书明,孙煜,等. 一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统. CN106199993B[P]. 2019-03-08.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN106199993B.PDF（658KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文