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一种氮化镓基半导体激光器及其制作方法
其他题名一种氮化镓基半导体激光器及其制作方法
温鹏雁; 李德尧; 张书明; 刘建平; 张立群; 杨辉
2019-02-12
专利权人杭州增益光电科技有限公司
公开日期2019-02-12
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明公开一种氮化镓基半导体激光器,包括衬底、设置在衬底上的波导结构及设置在衬底与波导结构之间的多量子阱吸收层,其中,多量子阱吸收层用于吸收由波导结构泄漏到衬底中的光。本发明还公开一种氮化镓基半导体激光器的制作方法。本发明的氮化镓基半导体激光器及其制作方法,未出现衬底模式,改善了远场光斑。
其他摘要本发明公开一种氮化镓基半导体激光器,包括衬底、设置在衬底上的波导结构及设置在衬底与波导结构之间的多量子阱吸收层,其中,多量子阱吸收层用于吸收由波导结构泄漏到衬底中的光。本发明还公开一种氮化镓基半导体激光器的制作方法。本发明的氮化镓基半导体激光器及其制作方法,未出现衬底模式,改善了远场光斑。
授权日期2019-02-12
申请日期2014-03-27
专利号CN104953467B
专利状态授权
申请号CN201410120399.7
公开(公告)号CN104953467B
IPC 分类号H01S5/343
专利代理人孙伟峰 | 杨林
代理机构深圳市铭粤知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38182
专题半导体激光器专利数据库
作者单位杭州增益光电科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
温鹏雁,李德尧,张书明,等. 一种氮化镓基半导体激光器及其制作方法. CN104953467B[P]. 2019-02-12.
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