Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 露光装置 | |
| 其他题名 | 露光装置 |
| 梶山 康一; 水村 通伸; 金尾 正康; 石川 晋 | |
| 2016-09-02 | |
| 专利权人 | 株式会社ブイ·テクノロジー |
| 公开日期 | 2016-09-21 |
| 授权国家 | 日本 |
| 专利类型 | 授权发明 |
| 摘要 | 【課題】露光光源と接続端子とを基板に対して上下方向に積層して配置することにより、基板上に露光光源を密に配置することができる露光装置を提供する。 【解決手段】露光装置は、透明基板1と、前記透明基板1上に配置され、露光光Lを放射する露光光源2と、前記露光光源2を挟んで前記透明基板1と反対側に積層して配置された接続端子3と、前記露光光源2と前記接続端子3とを電気的に接続する駆動電極4と、を含んで構成される。 【選択図】図1 |
| 其他摘要 | 该曝光装置包括：透明基板（1）;曝光光源（2），设置在透明基板（1）上，并发射曝光光（A）;连接端子（3），其通过层叠在与透明基板（1）相对的一侧而设置，其间具有曝光光源（2）;驱动电极（4），其将曝光光源（2）和连接端子（3）彼此电连接。通过以这种方式将曝光光源和连接端子设置在基板上，通过在垂直方向上相对于基板层叠曝光光源和连接端子，可以将曝光光源紧密地设置在基板上。 |
| 申请日期 | 2012-05-16 |
| 专利号 | JP5994091B2 |
| 专利状态 | 授权 |
| 申请号 | JP2012112386 |
| 公开（公告）号 | JP5994091B2 |
| IPC 分类号 | H01L33/62 | H01S5/022 | B41J2/44 | B41J2/45 | B41J2/455 | H01L51/50 | H05B33/02 | H05B33/06 |
| 专利代理人 | 小川 護晃 | 西山 春之 | 奥山 尚一 | 荒木 邦夫 | 梶 大樹 |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34126 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社ブイ·テクノロジー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梶山 康一,水村 通伸,金尾 正康,等. 露光装置. JP5994091B2[P]. 2016-09-02. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| JP5994091B2.PDF（1072KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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