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発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置
其他题名発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置
廣居 正樹
2014-03-14
专利权人株式会社リコー
公开日期2014-05-14
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【課題】面発光型半導体レーザの2次元アレイ素子を位置精度よく取付けし、発光源から射出される光ビームの射出角を容易に補正することができる発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置を提供する。 【解決手段】複数の発光素子が同一平面に垂直に光ビームを出射するように配列された発光素子アレイ245が、パッケージ246の主面301に垂直な光ビームを出射するようにパッケージ246に収容してなる発光装置201であって、発光装置201を取付ける取付部材にパッケージ246が当接されて取付けられる際の光ビームの光軸方向を補正するために、パッケージ246の取付部材側の面の複数の箇所に、光軸方向を補正する角度に応じた高低差を有する複数の凸部312が設けられることを特徴とする発光装置201、及びこの発光装置201を用いたマルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置。 【選択図】図6
其他摘要要解决的问题:提供一种安装二维阵列元件的发光器件,用于表面发射型半导体激光器,具有优异的位置精度,并且易于校正从发射源发射的光束的发射角,光束光源装置,多光束扫描器和用于形成图像的装置。 ŽSOLUTION:在发光装置201中,排列成使得多个发光元件垂直发射光束到同一平面的发光元件阵列245被容纳在封装246中,以便发射垂直于其的光束。在发光装置中,具有与校正光轴方向的角度相对应的高度差的多个突出部分312形成在安装构件侧的表面的多个位置处。封装246用于在封装246抵靠并装配到安装发光装置201的安装构件时校正光束的光轴方向。发光装置201,多光束光源装置使用提供发光装置201,多光束扫描仪和用于形成图像的装置。 Ž
申请日期2008-05-22
专利号JP5493293B2
专利状态授权
申请号JP2008134615
公开(公告)号JP5493293B2
IPC 分类号H01S5/022 | B41J2/44 | H04N1/113
专利代理人伊東 忠彦
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34016
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
廣居 正樹. 発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置. JP5493293B2[P]. 2014-03-14.
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JP5493293B2.PDF(392KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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