マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置

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	マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置
其他题名	マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置
	増田浩二
	2012-06-15
专利权人	株式会社リコー
公开日期	2012-08-29
授权国家	日本
专利类型	授权发明
摘要	【課題】大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することができるマルチビーム光源ユニットを提供する。【解決手段】シングルビーム光源LD1から出射されたTM偏光の光ビームはレンズ1で整形された後、λ/2板5でTE偏光とされて、偏光光学素子2に入射する。一方、シングルビーム光源LD2から出射されたTM偏光の光ビームは回折光学素子3で偏向された後、レンズ4で整形されて、偏光光学素子2に入射する。偏光光学素子2に入射した各光ビームは、互いに同一方向に出射される。これにより、偏光光学素子2に入射する各光ビームの入射方向を任意に設定することができる。【選択図】図3
其他摘要	要解决的问题：提供一种能够稳定地发射多个光束而不会引起大尺寸和成本增加的多光束光源单元。 ŽSOLUTION：从单光束光源LD1发射的TM偏振光束由透镜1成形，然后由λ/ 2板5进行TE偏振，并进入偏振光学元件2. TM偏振从单光束光源LD2发射的光束被衍射光学元件3偏转。然后它被透镜4成形，并进入偏振光学元件2.进入偏振光学元件2的各个光束被发射出去。同一个方向。因此，可以任意设定进入偏振光学元件2的光束的进入方向。 Ž
申请日期	2006-02-07
专利号	JP5013578B2
专利状态	授权
申请号	JP2006029102
公开（公告）号	JP5013578B2
IPC 分类号	B41J2/44 \| H04N1/113 \| G02B27/28 \| G02B5/30 \| G02B26/10 \| H01S5/022
专利代理人	立石篤司
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33958
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	株式会社リコー
推荐引用方式 GB/T 7714	増田浩二. マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置. JP5013578B2[P]. 2012-06-15.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP5013578B2.PDF（100KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文