Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| Laser irradiation apparatus | |
| 其他题名 | Laser irradiation apparatus |
| YAMAZAKI, SHUNPEI; TANAKA, KOICHIRO; TERAMOTO, SATOSHI | |
| 2002-08-27 | |
| 专利权人 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
| 公开日期 | 2002-08-27 |
| 授权国家 | 美国 |
| 专利类型 | 授权发明 |
| 摘要 | There are disposed two homogenizers for controlling an irradiation energy density in the longitudinal direction of a laser light transformed into a linear one which is inputtted into the surface to be irradiated. Also, there is disposed one homogenizer for controlling an irradiation energy density in a width direction of the linear laser light. According to this, the uniformity of laser annealing can be improved by the minimum number of homogenizers. |
| 其他摘要 | 设置两个均化器，用于控制转换成线性的激光的纵向照射能量密度，该激光被输入到待照射的表面中。另外，设置一个均化器，用于控制线性激光的宽度方向上的照射能量密度。据此，通过最少量的均化器可以改善激光退火的均匀性。 |
| 申请日期 | 2001-08-16 |
| 专利号 | US6441965 |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | US09/932769 |
| 公开（公告）号 | US6441965 |
| IPC 分类号 | B23K26/06 | G02B27/09 | H01S5/40 | H01S5/00 | B23K26/073 | H01S3/13 | G02B27/10 |
| 专利代理人 | - |
| 代理机构 | FISH & RICHARDSON P.C. |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33753 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | YAMAZAKI, SHUNPEI,TANAKA, KOICHIRO,TERAMOTO, SATOSHI. Laser irradiation apparatus. US6441965[P]. 2002-08-27. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| US6441965.PDF（518KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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