マルチビーム光源装置

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	マルチビーム光源装置
其他题名	マルチビーム光源装置
	伊藤孝治; 加藤亮太; 服部豊
	2009-08-28
专利权人	ブラザー工業株式会社
公开日期	2009-11-11
授权国家	日本
专利类型	授权发明
摘要	【課題】生産効率が高く、安定した露光ができるマルチビーム光源装置を提供すること。【解決手段】半導体レーザ素子6は、真鍮製のステム61と、この上部に覆うように配置され射出孔66を備えたキャップ67とから金属ケース65が形成され、ステム61には、複数の発光部63a,63bを有するレーザダイオード63とフォトダイオード64が配設され、それぞれのカソードが共通線としての金属ケース65に接地される。また、これらのアノードはそれぞれ金属ケースと絶縁され下方に突設されたピン68a,68b,68cに接続される。半導体レーザ素子6の金属ケース65は、放熱板を兼ねたアルミニウム製の支持プレート3に圧入されて金属ケース65と導通が取られ、支持プレート3は駆動回路5に接続される。従って、ピンの数を減らすことで生産効率を高めるとともに、放熱効果も高まり安定した露光ができる。
其他摘要	要解决的问题：提供生产效率高且能够稳定曝光的多光束光源。解决方案：半导体激光器元件6由金属壳体65形成，该金属壳体65由黄铜制成的杆61和盖子67形成，盖子67布置成覆盖其上部并具有出口孔66.具有多个发光部件的激光二极管63 63a和63b以及光电二极管64设置在杆61处。它们各自的阴极作为公共线接地到金属壳65。它们的阳极分别与金属壳体绝缘，并连接到突出设置在下侧的销68a，68b和68c。半导体激光元件6的金属壳体65压配合到通常用作铝制的支撑板3作为散热板并且被引导到金属壳体65.支撑板3连接到驱动电路5。然后，可以通过减少引脚数来提高生产效率，提高热辐射效率并且可以执行稳定的曝光。
申请日期	2000-11-22
专利号	JP4362971B2
专利状态	授权
申请号	JP2000355179
公开（公告）号	JP4362971B2
IPC 分类号	G02B \| H01S \| H01S5/22 \| H04N1/113 \| B41J2/44 \| B41J \| H01S5/026 \| G02B26/10 \| H04N
专利代理人	山本尚
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33708
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	ブラザー工業株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	伊藤孝治,加藤亮太,服部豊. マルチビーム光源装置. JP4362971B2[P]. 2009-08-28.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP4362971B2.PDF（129KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文