可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体

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	可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体
	程光华; 张国栋; 赵卫
	2018-09-07
专利权人	中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期	2019-01-08
授权国家	中国
专利类型	发明专利
产权排序	1
摘要	本发明涉及激光器的可饱和吸收体，针对现有可饱和吸收体导热性差、稳定性低、光谱响应窄、制备工艺复杂、工作寿命短、生产成本高等问题，而提供一种可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体。其中，可饱和吸收体制备方法，包括以下步骤：1)将二维纳米材料分散于分散液中，进行超声处理，得到二维纳米材料分散液；2)将多孔玻璃放置于二维纳米材料分散液中，在超声条件下进行筛选吸附，形成多孔玻璃与二维纳米材料复合体；3)将多孔玻璃与二维纳米材料复合体取出，干燥；4)对经过干燥处理后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体退火；5)对退火后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行切割，抛光，得到可饱和吸收体。
主权项	一种可饱和吸收体制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1)将二维纳米材料分散于分散液中，进行超声处理，得到二维纳米材料分散液； 2)将多孔玻璃放置于二维纳米材料分散液中，在超声条件下进行筛选吸附，使二维纳米材料均匀分散于多孔玻璃中，形成多孔玻璃与二维纳米材料复合体； 3)将多孔玻璃与二维纳米材料复合体取出，并进行干燥处理； 4)对经过干燥处理后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行退火处理；使得多孔玻璃的纳米孔塌陷，多孔玻璃致密化； 5)对退火后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行切割，抛光，得到可饱和吸收体。
申请日期	2018-09-07
专利号	CN201811044919.5
语种	中文
专利状态	申请中
申请号	CN201811044919.5
公开（公告）号	CN109167245A
IPC 分类号	H01S3/11 ; H01S3/098 ; H01S3/106
专利代理人	倪金荣
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/31775
专题	瞬态光学研究室
作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	程光华,张国栋,赵卫. 可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体. CN201811044919.5[P]. 2018-09-07.

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可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱（917KB）	专利		限制开放	CC BY-NC-SA	请求全文