一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法

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	一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法
其他题名	一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法
	张文富; 孙笑晨; 章羚璇; 王国玺; 杜书剑
	2018-11-06
专利权人	中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期	2018-11-06
授权国家	中国
专利类型	发明专利
产权排序	1
摘要	本发明涉及一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法，解决现有片上二维光学相控阵偏转角不够大、分辨率不够高的问题。该方法包括以下步骤：1)将一维天线阵元的均匀间隔由相位加权法优化出一维非均匀阵列间隔；2)将步骤1)得到的阵元间隔用于二维阵列，通过转化算法对阵元出射光加上调制相位，同时调制每个阵元的相位；3)将得到的阵元间隔用于片上二维光学相控阵的制作，将得到的相位差用于电调，得到低栅瓣光学相控阵。
主权项	一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法，其特征在于，包括以下步骤： 1)将一维天线阵元的均匀间隔由相位加权法优化为一维非均匀阵列间隔，优化的阵元间隔d0为： d0＝d+g(c) 其中：d为阵元初始间距，g(c)为步长函数，c为步长系数； 2)将步骤1)得到的阵元间隔用于二维阵列，通过转化算法对阵元出射光加上调制相位，调制每个阵元的相位；设ABCD是呈矩形排列的四个阵元，O点为相控阵某个扫描点，则∠DOF＝θy，θy为y方向偏转角，∠EOF＝θx，θx为x方向偏转角，阵元AD距离为dx，阵元AB距离为dy，且OF⊥平面ABCD，步骤1)优化后得：dx＝d+gx(c)，dy＝d+gy(c)，gx(c)为x方向的步长函数，gy(c)为y方向的步长函数；则AC两阵元之间相位差αAC为：由该公式得到任意两个阵元之间的相位差； 3)将阵元间隔dx、dy用于片上二维光学相控阵的制作，将得到的相位差αAC用于电调阵元的相位，得到低栅瓣光学相控阵。
授权日期	2018-11-06
申请日期	2018-04-18
专利号	CN201810349623.8
语种	中文
专利状态	申请中
申请号	CN201810349623.8
PCT属性	否
公开（公告）号	CN108761954A
IPC 分类号	G02F1/29
专利代理人	杨引雪
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30947
专题	热控技术研究室_其它单位_其它部门
作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张文富,孙笑晨,章羚璇,等. 一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法. CN201810349623.8[P]. 2018-11-06.

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2018103496238.pdf（2877KB）	专利		限制开放	CC BY-NC-SA	请求全文