OPT OpenIR  > 光子功能材料与器件研究室
一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法
彭波; 侯超奇; 陆敏; 王鹏飞; 高飞; 李玮楠
2013-05-30
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期2013-08-28
专利类型发明
产权排序1
摘要本发明提出了一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法。该方法采用的原料组分为AlF3、BaF2、MgF2、SiO2、Y2O3、CoO,所占摩尔百分数分别为25~40%、15~30%、10~25%、14~25.5%、2~4%、2~3.5%;称取原料混合均匀,加入钳锅,熔制温度控制在1050--1150℃左右,并持续搅拌;待熔融得到澄清玻璃液后,降温至900-950℃,将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型;快速放入马弗炉中,以10℃/小时进行退火,直到温度降至50℃,关闭马弗炉,待自然降至室温,取出最终成品。该方法制备得到的材料损伤阈值高,可选择性地滤掉二倍频光,在紫外波段高透。
申请日期2013-05-30
专利号CN103265173
申请号CN201310210092
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21650
专题光子功能材料与器件研究室
推荐引用方式
GB/T 7714
彭波,侯超奇,陆敏,等. 一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法. CN103265173[P]. 2013-05-30.
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一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法(486KB) 限制开放CC BY-NC-SA请求全文
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