Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| MOCVD气流场的理论和实验研究 | |
| 张佳文 | |
| 学位类型 | 硕士 |
| 导师 | 张济康 |
| 1992-06-01 | |
| 学位授予单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所. |
| 学位专业 | 电子、离子物理 |
| 关键词 | 金属有机物化学汽相淀积 纵卷流 |
| 摘要 | 本文分实验模拟，分析模型和数值模拟三个部分系统进行了MOCVD气流场的理论和实验研究，目的在于寻求生长均匀性、界面突变性与反应器几何形状和生长条件之间的关系。文中指出了MOCVD反应器中纵卷流是影响均匀性的主要因素，回流是影响突变性的主要因素，并且给出了消除回流和纵卷流的条件，得出了能够进行均匀生长和突变生长的最佳反应器几何形状及工作参数。本文的研究结果对于MOCVD法外延生长具有重要的参考价值。 |
| 学科领域 | 电子、离子物理 |
| 页数 | 67 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 学位论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/12740 |
| 专题 | 中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张佳文. MOCVD气流场的理论和实验研究[D]. 中国科学院西安光学精密机械研究所.,1992. |
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