HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响 | |
Zhao Wu(赵武); Zhang Zhiyong(张志勇); Di Chunxue(翟春雪); Deng Zhouhu(邓周虎) | |
作者部门 | 研究生部 |
2009 | |
发表期刊 | 光子学报 |
ISSN | 1004-4213 |
卷号 | 38期号:4页码:823-826 |
学科领域 | 物理科学和化学 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/11621 |
专题 | 研究生部 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao Wu(赵武),Zhang Zhiyong(张志勇),Di Chunxue(翟春雪),等. HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响[J]. 光子学报,2009,38(4):823-826. |
APA | Zhao Wu,Zhang Zhiyong,Di Chunxue,&Deng Zhouhu.(2009).HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响.光子学报,38(4),823-826. |
MLA | Zhao Wu,et al."HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响".光子学报 38.4(2009):823-826. |
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