| Xilinx FPGA抗辐射设计技术研究 | |
Xue Lijun(薛利军); Duan Xiaofeng(段晓峰); Liu Xuebin(刘学斌) ; Wei Junxia(卫俊霞); Shi Xingchun(石兴春)
| |
| 作者部门 | 光谱成像技术实验室 |
| 2011 | |
| 发表期刊 | 电子技术
 |
| ISSN | 1000-0755 |
| 期号 | 6页码:21-22 14 |
| 学科领域 | 物理科学和化学 |
| 收录类别 | 0 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/10469 |
| 专题 | 光谱成像技术研究室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xue Lijun(薛利军),Duan Xiaofeng(段晓峰),Liu Xuebin(刘学斌),等. Xilinx FPGA抗辐射设计技术研究[J]. 电子技术,2011(6):21-22 14. |
| APA | Xue Lijun,Duan Xiaofeng,Liu Xuebin,Wei Junxia,&Shi Xingchun.(2011).Xilinx FPGA抗辐射设计技术研究.电子技术(6),21-22 14. |
| MLA | Xue Lijun,et al."Xilinx FPGA抗辐射设计技术研究".电子技术 .6(2011):21-22 14. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| XilinxFPGA抗辐射设计技术研究.（794KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论