热铟封技术中多层金属薄膜的研究 | |
Zhao Feifei(赵菲菲); Zhao Baosheng(赵宝升); Li Wei(李伟); Sai Xiaofeng(赛小锋); Wei Yonglin(韦永林)![]() | |
作者部门 | 光电子学研究室 |
2010 | |
发表期刊 | 真空科学与技术学报
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ISSN | 1672-7126 |
卷号 | 30期号:4页码:351-354 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/10041 |
专题 | 光电子学研究室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao Feifei(赵菲菲),Zhao Baosheng(赵宝升),Li Wei(李伟),等. 热铟封技术中多层金属薄膜的研究[J]. 真空科学与技术学报,2010,30(4):351-354. |
APA | Zhao Feifei,Zhao Baosheng,Li Wei,Sai Xiaofeng,Wei Yonglin,&Zou Wei.(2010).热铟封技术中多层金属薄膜的研究.真空科学与技术学报,30(4),351-354. |
MLA | Zhao Feifei,et al."热铟封技术中多层金属薄膜的研究".真空科学与技术学报 30.4(2010):351-354. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
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