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高精度视场匹配的主被动立体光谱成像装置及其探测方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201611198583.9, 申请日期: 2016-12-22, 公开日期: 2017-05-10
发明人:  高晓惠;  孙鑫;  朱少岚;  王飞橙;  高存孝;  李洪波;  李芸;  武登山;  赵强;  胡炳樑
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