| 倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统 |
| 李明; 李珣; 刘红军
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| 2020-11-17
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| 专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
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| 公开日期 | 2020-04-24
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明专利
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| 产权排序 | 1
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| 摘要 | 一种倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统，系统包括飞秒激光器、光路传输系统、矩形平顶整形单元和高倍率聚焦显微物镜。先根据系统的最优制造焦深，将倒四棱锥台/四棱锥形状分为n层，计算每一层的层面尺寸，调整系统使其焦面位于倒四棱锥台/四棱锥第1层的h/2位置处，用整形汇聚后的矩形平顶光，对该层加工；依次类推直至第n层。本发明解决现有技术控形能力差及加工能力受限的问题，采用按层面尺寸依次加工，得到深度在百微米级的减反微纳结构，提高了减反微纳结构的减反增透率；通过光斑整形按层面尺寸依次加工，提高了激光微纳加工的控形能力；自上而下加工，加工深径比更大。 |
| 授权日期 | 2020-11-17
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| 申请日期 | 2019-12-29
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| 专利号 | CN201911386649.0
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 授权
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| 申请号 | CN201911386649.0
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| 公开（公告）号 | CN111055009B
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| IPC 分类号 | B23K26/00
; B23K26/046
; B23K26/073
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94024
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| 专题 | 瞬态光学研究室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
李明,李珣,刘红军. 倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统. CN201911386649.0[P]. 2020-11-17.
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