| 一种激光双摆轴加工头的光束偏转自补偿系统及其方法 |
| 江浩; 李明; 李珣; 谭羽
|
| 2020-11-17
|
| 专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
|
| 公开日期 | 2020-05-05
|
| 授权国家 | 中国
|
| 专利类型 | 发明专利
|
| 产权排序 | 1
|
| 摘要 | 本发明涉及一种激光双摆轴加工头的光束偏转自补偿系统及其方法。该系统包括λ/2波片、偏振分光棱镜、λ/4波片以及平面反射镜；外部激光器发射的激光光束依次经λ/2波片、激光双摆轴加工头中第一旋转轴后被偏振分光棱镜反射；偏振分光棱镜产生的反射光经由λ/4波片后被平面反射镜再次反射，平面反射镜产生的反射光经由λ/4波片后穿过激光双摆轴加工头中第二旋转轴向外水平出射。通过本发明使得激光双摆轴加工头即便受到机械振动、端/轴向跳动以及结构件装配误差等因素的影响，出射光束依然可以水平出射，大大提升了激光双摆轴加工头在加工过程中激光焦点位置的精准度。 |
| 授权日期 | 2020-11-17
|
| 申请日期 | 2019-12-19
|
| 专利号 | CN201911319502.X
|
| 语种 | 中文
|
| 专利状态 | 授权
|
| 申请号 | CN201911319502.X
|
| 公开（公告）号 | CN111098026B
|
| IPC 分类号 | B23K26/06
; B23K26/70
|
| 文献类型 | 专利
|
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94000
|
| 专题 | 瞬态光学研究室
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
江浩,李明,李珣,等. 一种激光双摆轴加工头的光束偏转自补偿系统及其方法. CN201911319502.X[P]. 2020-11-17.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论