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激光二极管发射光功率调节方法、装置及系统
其他题名激光二极管发射光功率调节方法、装置及系统
肖冲; 殷朋林; 陈早品; 王民利; 张涛
2016-12-14
专利权人深圳市共进电子股份有限公司
公开日期2016-12-14
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种激光二极管发射光功率调节方法、装置及系统。其中,发射光功率值是在APC电路根据参考电平更新后的值调节激光二极管的偏置电流后测量得出的。同时,在判断激光二极管的发射光功率值处于目标范围之外时,根据第一相关性即可得出目标光功率对应的参考电平的更新值并更新参考电平的值,再依次循环执行直至发射光功率值处于目标范围之内。因此,在每次循环执行过程中,都是基于目标光功率对应的参考电平的更新值来通过APC电路、驱动电路控制激光二极管的发射光功率,只要循环一次,就能使激光二极管的发射光功率调节至目标光功率附近,从而能够避免出现激光二极管的发射光功率远大于目标光功率的情况,提高了调节的安全性。
其他摘要本发明涉及一种激光二极管发射光功率调节方法、装置及系统。其中,发射光功率值是在APC电路根据参考电平更新后的值调节激光二极管的偏置电流后测量得出的。同时,在判断激光二极管的发射光功率值处于目标范围之外时,根据第一相关性即可得出目标光功率对应的参考电平的更新值并更新参考电平的值,再依次循环执行直至发射光功率值处于目标范围之内。因此,在每次循环执行过程中,都是基于目标光功率对应的参考电平的更新值来通过APC电路、驱动电路控制激光二极管的发射光功率,只要循环一次,就能使激光二极管的发射光功率调节至目标光功率附近,从而能够避免出现激光二极管的发射光功率远大于目标光功率的情况,提高了调节的安全性。
申请日期2016-08-03
专利号CN106230501A
专利状态授权
申请号CN201610628619.6
公开(公告)号CN106230501A
IPC 分类号H04B10/079 | H04B10/564
专利代理人吴平
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/93131
专题半导体激光器专利数据库
作者单位深圳市共进电子股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
肖冲,殷朋林,陈早品,等. 激光二极管发射光功率调节方法、装置及系统. CN106230501A[P]. 2016-12-14.
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