Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统 | |
其他题名 | 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统 |
王敏; 王警卫; 蔡万绍; 刘兴胜 | |
2014-06-04 | |
专利权人 | 西安炬光科技股份有限公司 |
公开日期 | 2014-06-04 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 实用新型 |
摘要 | 本实用新型提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统,该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中,降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致,均为TM(或TE);在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片,所述偏振合束片对TM(或TE)光进行透射,对TE(或TM)光进行反射;在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片,用以将光的偏振态旋转45°;在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。 |
其他摘要 | 本实用新型提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统,该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中,降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致,均为TM(或TE);在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片,所述偏振合束片对TM(或TE)光进行透射,对TE(或TM)光进行反射;在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片,用以将光的偏振态旋转45°;在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。 |
申请日期 | 2013-10-29 |
专利号 | CN203631976U |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201320677616.3 |
公开(公告)号 | CN203631976U |
IPC 分类号 | H01S5/40 | H01S5/068 | H01S5/06 | G02B27/28 | G02B7/182 | B23K26/70 |
专利代理人 | 胡乐 |
代理机构 | 西安智邦专利商标代理有限公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92938 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 西安炬光科技股份有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王敏,王警卫,蔡万绍,等. 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统. CN203631976U[P]. 2014-06-04. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN203631976U.PDF(226KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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