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一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
其他题名一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
王敏; 王警卫; 蔡万绍; 刘兴胜
2014-06-04
专利权人西安炬光科技股份有限公司
公开日期2014-06-04
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统,该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中,降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致,均为TM(或TE);在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片,所述偏振合束片对TM(或TE)光进行透射,对TE(或TM)光进行反射;在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片,用以将光的偏振态旋转45°;在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
其他摘要本实用新型提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统,该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中,降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致,均为TM(或TE);在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片,所述偏振合束片对TM(或TE)光进行透射,对TE(或TM)光进行反射;在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片,用以将光的偏振态旋转45°;在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
申请日期2013-10-29
专利号CN203631976U
专利状态授权
申请号CN201320677616.3
公开(公告)号CN203631976U
IPC 分类号H01S5/40 | H01S5/068 | H01S5/06 | G02B27/28 | G02B7/182 | B23K26/70
专利代理人胡乐
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92938
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王敏,王警卫,蔡万绍,等. 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统. CN203631976U[P]. 2014-06-04.
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