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具有(20-2-1)面的半极性氮化镓的外延层及其制造方法
其他题名具有(20-2-1)面的半极性氮化镓的外延层及其制造方法
陈辰; 宋杰; 崔周源
2019-02-22
专利权人西安赛富乐斯半导体科技有限公司
公开日期2019-02-22
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本公开涉及一种用于在衬底上形成具有(2021)取向的半极性氮化镓的外延层的方法,包括:在PSS的晶体生长表面生长平行于所述衬底的加工表面的具有(2021)取向的第一半极性氮化镓外延层;在第一半极性氮化镓外延层的表面采用氢化物气相外延(HVPE)方法生长具有(2021)取向的厚度不小于0.1mm的第二半极性氮化镓外延层;整体剥离所述第一半极性氮化镓外延层和第二半极性氮化镓外延层;以及通过化学‑机械抛光法(CMP)对所剥离下来的所述第一半极性氮化镓外延层的面向图案化蓝宝石衬底的表面进行平坦化处理,从而获得具有(2021)取向表面的半极性氮化镓外延层。
其他摘要本公开涉及一种用于在衬底上形成具有(2021)取向的半极性氮化镓的外延层的方法,包括:在PSS的晶体生长表面生长平行于所述衬底的加工表面的具有(2021)取向的第一半极性氮化镓外延层;在第一半极性氮化镓外延层的表面采用氢化物气相外延(HVPE)方法生长具有(2021)取向的厚度不小于0.1mm的第二半极性氮化镓外延层;整体剥离所述第一半极性氮化镓外延层和第二半极性氮化镓外延层;以及通过化学‑机械抛光法(CMP)对所剥离下来的所述第一半极性氮化镓外延层的面向图案化蓝宝石衬底的表面进行平坦化处理,从而获得具有(2021)取向表面的半极性氮化镓外延层。
申请日期2018-12-04
专利号CN109378369A
专利状态申请中
申请号CN201811472366.3
公开(公告)号CN109378369A
IPC 分类号H01L33/00 | H01L33/16 | H01L33/18 | H01L33/32 | H01S5/30
专利代理人黄剑飞
代理机构北京金讯知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92333
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安赛富乐斯半导体科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
陈辰,宋杰,崔周源. 具有(20-2-1)面的半极性氮化镓的外延层及其制造方法. CN109378369A[P]. 2019-02-22.
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