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半導体レーザ装置
其他题名半導体レーザ装置
今藤 修; 内藤 浩樹; 粂 雅博; 伊藤 国雄
2000-03-03
专利权人松下電子工業株式会社
公开日期2000-05-15
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】 光情報処理等の光源として用いる半導体レーザ装置において発振波長を安定させ、動作電流値を下げる。 【構成】 Ga1-XAlXAs活性層4の主面の少なくとも一方の側に一導電型のGa1-Y1AlY1As第1光ガイド層5および回折格子を有するGa1-Y2AlY2As第2光ガイド層6が形成されており、第2光ガイド層6の上にストライプ状の窓7aを有する逆導電型のGa1-ZAlZAs電流ブロック層7が形成されており、ストライプ状の窓7aには一導電型のGa1-Y3AlY3Asクラッド層9が形成されており、かつAlAs混晶比を決めるX、Y1、Y2、Y3およびZの間にZ>Y3>Y2>X≧0、Y1>Y2の関係を有する。
其他摘要[目的]在用作光学信息处理等的光源的半导体激光器件中稳定振荡波长并降低工作电流值。 在Ga 1-X Al X 1-Y 1 Al Y1 作为Ga 1-Y2 Al Y2 具有第一光导层5和衍射光栅作为第二导光层6 Ga 1-Z Al Z 作为在第二光导层6上具有条纹窗口7a的反向导电类型的电流阻挡层7并且Ga 1-Y3 Al Y3 作为一种导电类型的包层9形成在条纹窗口7a和AlAs混合确定结晶率的Y,Y 2>X≥0且Y 1> Y 2在X,Y 1,Y 2,Y 3和Z之间。
申请日期1992-09-29
专利号JP3040262B2
专利状态失效
申请号JP1992259305
公开(公告)号JP3040262B2
IPC 分类号H01S | H01S5/00 | H01S5/12
专利代理人岩橋 文雄 (外2名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88086
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電子工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
今藤 修,内藤 浩樹,粂 雅博,等. 半導体レーザ装置. JP3040262B2[P]. 2000-03-03.
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