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一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置
其他题名一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置
李强; 张磊; 雷訇; 惠勇凌; 姜梦华
2019-04-16
专利权人北京工业大学
公开日期2019-04-16
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置,采用填充二极管阵列之间的发光空隙,对单个半导体叠阵进行空间合束,因此将半导体叠阵发光区域总体分为上下两部分。将b个半导体阵列中的x个和y个,由y个阵列激光直接通过条纹镜透射区透射,而由x个阵列对应的激光通过条纹镜和反射镜反射后,再次透过条纹镜最下方透射区透射,与y个阵列产生的激光进行位置交换,并整体向下偏移,而a个阵列产生的激光通过反射镜和条纹镜反射区反射后,穿插在透射光间隔之中。通过移动阵列的个数,可增加条纹镜厚度,而空间合束的激光功率密度可成倍提高,对条纹镜的厚度无限制。本方法克服了半导体叠阵数量及功率的限制,从而实现高功率合束。
其他摘要本发明公开了一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置,采用填充二极管阵列之间的发光空隙,对单个半导体叠阵进行空间合束,因此将半导体叠阵发光区域总体分为上下两部分。将b个半导体阵列中的x个和y个,由y个阵列激光直接通过条纹镜透射区透射,而由x个阵列对应的激光通过条纹镜和反射镜反射后,再次透过条纹镜最下方透射区透射,与y个阵列产生的激光进行位置交换,并整体向下偏移,而a个阵列产生的激光通过反射镜和条纹镜反射区反射后,穿插在透射光间隔之中。通过移动阵列的个数,可增加条纹镜厚度,而空间合束的激光功率密度可成倍提高,对条纹镜的厚度无限制。本方法克服了半导体叠阵数量及功率的限制,从而实现高功率合束。
主权项一种高功率半导体叠阵空间合束的装置,其特征在于:包括一个半导体叠阵(1),条纹镜(2),第一平面反射镜(3)和第二平面反射镜(4);半导体叠阵(1)分为上部分和下部分;激光由水平放置的半导体叠阵发出,上部分a个半导体阵列产生的激光,直接照射到与水平成45°放置的第一平面反射镜(3)上,向下反射至与水平成45°放置的条纹镜(2)的第二镜面,照射到设置有45°高反膜区域,进行二次反射输出;下部分b个半导体阵列产生的激光,直接照射到条纹镜(2)的第一镜面上,第一镜面的上部分设置有45°高反膜,下部分设置有45°增透膜,再次将b个阵列产生的激光分为x个和y个,x个阵列产生的激光经过第一镜面设置有高反膜区域的反射,向下反射至第二平面反射镜(4),再次反射至条纹镜(2)第一镜面设置有增透膜区域,透过条纹镜(2),从第二镜面设置有增透膜区域输出;y个阵列产生的激光则照射到条纹镜(2)增透膜区域,直接透射过条纹镜,从第二镜面增透膜区域输出。
申请日期2019-01-14
专利号CN109638649A
专利状态申请中
申请号CN201910031825.2
公开(公告)号CN109638649A
IPC 分类号H01S5/40 | G02B27/10
专利代理人沈波
代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57978
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李强,张磊,雷訇,等. 一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置. CN109638649A[P]. 2019-04-16.
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