Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置 | |
其他题名 | 一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置 |
李强; 张磊; 雷訇; 惠勇凌; 姜梦华 | |
2019-04-16 | |
专利权人 | 北京工业大学 |
公开日期 | 2019-04-16 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 本发明公开了一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置,采用填充二极管阵列之间的发光空隙,对单个半导体叠阵进行空间合束,因此将半导体叠阵发光区域总体分为上下两部分。将b个半导体阵列中的x个和y个,由y个阵列激光直接通过条纹镜透射区透射,而由x个阵列对应的激光通过条纹镜和反射镜反射后,再次透过条纹镜最下方透射区透射,与y个阵列产生的激光进行位置交换,并整体向下偏移,而a个阵列产生的激光通过反射镜和条纹镜反射区反射后,穿插在透射光间隔之中。通过移动阵列的个数,可增加条纹镜厚度,而空间合束的激光功率密度可成倍提高,对条纹镜的厚度无限制。本方法克服了半导体叠阵数量及功率的限制,从而实现高功率合束。 |
其他摘要 | 本发明公开了一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置,采用填充二极管阵列之间的发光空隙,对单个半导体叠阵进行空间合束,因此将半导体叠阵发光区域总体分为上下两部分。将b个半导体阵列中的x个和y个,由y个阵列激光直接通过条纹镜透射区透射,而由x个阵列对应的激光通过条纹镜和反射镜反射后,再次透过条纹镜最下方透射区透射,与y个阵列产生的激光进行位置交换,并整体向下偏移,而a个阵列产生的激光通过反射镜和条纹镜反射区反射后,穿插在透射光间隔之中。通过移动阵列的个数,可增加条纹镜厚度,而空间合束的激光功率密度可成倍提高,对条纹镜的厚度无限制。本方法克服了半导体叠阵数量及功率的限制,从而实现高功率合束。 |
主权项 | 一种高功率半导体叠阵空间合束的装置,其特征在于:包括一个半导体叠阵(1),条纹镜(2),第一平面反射镜(3)和第二平面反射镜(4);半导体叠阵(1)分为上部分和下部分;激光由水平放置的半导体叠阵发出,上部分a个半导体阵列产生的激光,直接照射到与水平成45°放置的第一平面反射镜(3)上,向下反射至与水平成45°放置的条纹镜(2)的第二镜面,照射到设置有45°高反膜区域,进行二次反射输出;下部分b个半导体阵列产生的激光,直接照射到条纹镜(2)的第一镜面上,第一镜面的上部分设置有45°高反膜,下部分设置有45°增透膜,再次将b个阵列产生的激光分为x个和y个,x个阵列产生的激光经过第一镜面设置有高反膜区域的反射,向下反射至第二平面反射镜(4),再次反射至条纹镜(2)第一镜面设置有增透膜区域,透过条纹镜(2),从第二镜面设置有增透膜区域输出;y个阵列产生的激光则照射到条纹镜(2)增透膜区域,直接透射过条纹镜,从第二镜面增透膜区域输出。 |
申请日期 | 2019-01-14 |
专利号 | CN109638649A |
专利状态 | 申请中 |
申请号 | CN201910031825.2 |
公开(公告)号 | CN109638649A |
IPC 分类号 | H01S5/40 | G02B27/10 |
专利代理人 | 沈波 |
代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57978 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 北京工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李强,张磊,雷訇,等. 一种高功率半导体叠阵空间合束的方法及装置. CN109638649A[P]. 2019-04-16. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN109638649A.PDF(689KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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