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匀光装置及其制备方法
其他题名匀光装置及其制备方法
尹磊; 刘红忠; 陈邦道; 史永胜
2017-09-22
专利权人常州瑞丰特科技有限公司
公开日期2017-09-22
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种匀光装置及其制备方法,该匀光装置包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液态透镜,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第三电极板和第四电极板组成第二组平行板电容器,液态透镜的底部被镶嵌在基底上且液态透镜位于第一组平行板电容器和第二组平行板电容器之间。制备方法:基底上光刻胶图形化;溅射ZnO层;水浴生长ZnO纳米结构;氟表面处理;残余光刻胶去除;传感器封装。本发明能够将不均匀的光强分布利用液态透镜振动的方式转化为均匀的光强分布,具有可调节性强、可持续利用等优点。
其他摘要本发明公开了一种匀光装置及其制备方法,该匀光装置包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液态透镜,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第三电极板和第四电极板组成第二组平行板电容器,液态透镜的底部被镶嵌在基底上且液态透镜位于第一组平行板电容器和第二组平行板电容器之间。制备方法:基底上光刻胶图形化;溅射ZnO层;水浴生长ZnO纳米结构;氟表面处理;残余光刻胶去除;传感器封装。本发明能够将不均匀的光强分布利用液态透镜振动的方式转化为均匀的光强分布,具有可调节性强、可持续利用等优点。
主权项一种匀光装置,其特征在于,包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液态透镜,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第三电极板和第四电极板组成第二组平行板电容器,液态透镜的底部被镶嵌在基底上且液态透镜位于第一组平行板电容器和第二组平行板电容器之间。
申请日期2017-06-27
专利号CN107195764A
专利状态申请中
申请号CN201710499770.9
公开(公告)号CN107195764A
IPC 分类号H01L33/58 | H01L33/62
专利代理人张利强
代理机构苏州广正知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56114
专题半导体激光器专利数据库
作者单位常州瑞丰特科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
尹磊,刘红忠,陈邦道,等. 匀光装置及其制备方法. CN107195764A[P]. 2017-09-22.
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