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分布帰還型半導体レーザ装置及びその製造方法
其他题名分布帰還型半導体レーザ装置及びその製造方法
奥田 肇
专利权人株式会社東芝
公开日期1993-09-10
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 安定した単一縦モード発振を行うことができる上に、高温発振が可能でかつ、特性が均一な半導体レーザ装置とその製造方法を提供する点。 【構成】 光導波路層をInGaAlP,クラッドをInGaAlP で構成することにより、選択エッチングを可能とすることにより、リッジを再現性良く形成できるようにして、単一縦モードのレーザ発振を安定して行うことができると共に、特性が均一な半導体レーザ装置と、これを高い歩留まりで製造する方法を提供する。
其他摘要目的:通过构造具有衍射光栅的光波导和形成具有彼此不同晶体的脊的包层,并且构造作为晶体的有源层,来稳定单纵模的激光振荡,从而使激光的特性均匀化拥有不匹配的格子。组成:在倾斜5度的n型GaAs衬底11上连续生长包层12,有源层13,第一包层14和光波导15。在[011]的方向上从(100)平面或更多。光波导15构造为In0.5Ga0.5P,并且有源层使用晶格失配构造为In0.52Ga0.48P。其上转印有衍射光栅17的光波导15被第二包层18覆盖,并且使用氧化硅层作为掩模形成脊20。此外,形成n型GaAs电流阻挡层21。在脊20和电流阻挡层21被p型GaAs接触层22覆盖之后,接触层22被p型电极23覆盖,并且n型衬底11的下表面覆盖有p型电极23。因此,确保了稳定的单纵模振荡器。
申请日期1992-02-19
专利号JP1993235463A
专利状态失效
申请号JP1992031195
公开(公告)号JP1993235463A
IPC 分类号H01S5/042 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人大胡 典夫
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43818
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
奥田 肇. 分布帰還型半導体レーザ装置及びその製造方法. JP1993235463A.
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