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一种用于点源透过率测试的改进型腔体
其他题名一种用于点源透过率测试的改进型腔体
李朝辉; 李晓辉; 赵建科; 徐亮; 刘峰; 张玺斌; 于敏
2018-12-21
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期2018-08-17
授权国家中国
专利类型实用新型
产权排序1
摘要本实用新型属于光学系统杂散光测试领域,涉及一种用于点源透过率测试的改进型腔体。包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱;密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成;两个曲面的对接处设入光口;密封腔体的顶部与底部通过平板密封;光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处;光陷阱的横截面为等腰梯形。排除了PST测试结果中的“尖峰”噪点。
主权项一种用于点源透过率测试的改进型腔体,包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱;密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成;两个曲面的对接处设入光口;密封腔体的顶部与底部通过平板密封;其特征在于:所述光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处;所述光陷阱的横截面为等腰梯形。
学科领域G01n21/59
学科门类G01
授权日期2018-12-21
DOIG01N21
申请日期2018-01-15
专利号CN201820061726.X
语种中文
专利状态申请中
申请号CN201820061726.X
PCT属性
公开(公告)号CN207742114U
IPC 分类号G01N21/59
专利代理人汪海艳
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司
引用统计
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/31035
专题其它单位_其它部门
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李朝辉,李晓辉,赵建科,等. 一种用于点源透过率测试的改进型腔体. CN201820061726.X[P]. 2018-12-21.
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