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一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法
其他题名一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法
韩俊锋; 徐思旺; 井峰; 阮萍; 谢小平
2018-11-23
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期2018-11-23
授权国家中国
专利类型发明专利
产权排序1
摘要本发明提出一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法,解决了现有运动相移法要求跟踪机构正弦运动周期大于延时时长的限制,同时提高了脱靶量延时的测量精度。该方法首先将模拟目标置于光电跟踪系统的视场中,调节其位置使光电跟踪系统的相机能清晰成像;然后分别控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做大幅值低频率和小幅值高频率的正弦运动,采用运动相移法测量这两种参数条件下的脱靶量延时,相应分别记为Tc和Ts,综合得到高精度延时为:Tf+Ts×MOD(Tc,Ts),其中MOD(Tc,Ts)表示Tc/Ts的模值。本发明利用系统自身配置,无需增加额外软硬件,能显著提高延时测量精度,简单易行,可实施性强。
主权项一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法,其特征在于,包括以下环节: 1)将模拟目标置于光电跟踪系统的视场中,调节其位置使光电跟踪系统的相机能清晰成像,然后将模拟目标在该位置固定; 2)控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做大幅值低频率的正弦运动,正弦运动的周期Tz大于预估的脱靶量延时值,正弦运动的幅值应保证整个测量过程中模拟目标不出视场;由光电跟踪系统的电子学单元实时记录角度和脱靶量数据,并采用运动相移法测量脱靶量延时,记为Tc; 3)控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做小幅值高频率的正弦运动,正弦运动的周期小于Tc,记为Ts,正弦运动的幅值不大于环节2)中的幅值;由光电跟踪系统的电子学单元实时记录角度和脱靶量数据,并采用运动相移法测量脱靶量延时,记为Tf; 4)综合得到高精度延时为:Tf+Ts×MOD(Tc,Ts),其中MOD(Tc,Ts)表示Tc/Ts的模值。
授权日期2018-11-23
申请日期2018-03-26
专利号CN201810253349.4
语种中文
专利状态申请中
申请号CN201810253349.4
PCT属性
公开(公告)号CN108871374A
IPC 分类号G01C25/00 ; G01M11/00
专利代理人胡乐
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30935
专题其它单位_其它部门
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
韩俊锋,徐思旺,井峰,等. 一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法. CN201810253349.4[P]. 2018-11-23.
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